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人死后尾七是什么意思,头三尾七是什么意思 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一(yī)则突发(fā)消息。

  美光(guāng)公司在华销售的产品未(wèi)通过网络安全(quán)审查(chá)

  据(jù)网信(xìn)办(bàn)消息,日前,网络安全审查办公(gōng)室依法(fǎ)对美(měi)光公司在华销售产品进(jìn)行了网络安全(quán)审查。

  审查发现(xiàn),美(měi)光公(gōng)司(sī)产(chǎn)品存在较严重网络安全问题隐患,对我国关键(jiàn)信(xìn)息(xī)基础设施供应链造成重大安(ān)全风险,影响我国国家安(ān)全。为此(cǐ),网络安全审查办公室依法(fǎ)作出不予通(tōng)过(guò)网络安全(quán)审(shěn)查的(de)结论。按照《网络安全法》等法律(lǜ)法规,我国(guó)内关键(jiàn)信息基础设施的运营者应停止(zhǐ)采购美光公司产品。

  此次对美光公司产(chǎn)品进行网络安全审查(chá),目的(de)是防范产品网络安全问题危害国家关(guān)键信息基础设施安全,是(shì)维(wéi)护(hù)国家安全的必(bì)要措施(shī)。中国坚(jiān)定(dìng)推进高水(shuǐ)平对外开放,只要遵守中国(guó)法律(lǜ)法规要求,欢迎各(gè)国企(qǐ)业、各类平(píng)台(tái)产品服务进入中国(guó)市场。

  半导体突发!中(zhōng)国出手:停止(zhǐ)采购!

  3月31日,中国网信(xìn)网发文称,为保障关键信息基(jī)础设施供(gōng)应链安全,防范产(chǎn)品问题隐患(huàn)造成网(wǎng)络安(ān)全风险,维护国(guó)家安全(quán),依据《中华人民共和国国家(jiā)安全法》《中(zhōng)华人民共(gòng)和国网络安全法》,网络安全审查(chá)办(bàn)公室按照(zhào)《网络安全(quán)审查办法》,对美光公司(Micron)在华销售的产品实施网络安全审查(chá)。

  半导(dǎo)体突发!中国(guó)出手:停止采购!

  美光是美(měi)国(guó)的存储芯片行业龙头,也是全球存储芯片巨头之一,2022年收入(rù)来自(zì)中国市(shì)场收入从此前(qián)高峰57%降(jiàng)至2022年约(yuē)11%。根据市场咨询机(jī)构(gòu) Omdia(IHS Markit)统(tǒng)计,2021 年三(sān)星(xīng)电子(zi)、 铠侠、西部数据(jù)、SK 海(hǎi)力士、美光、Soli人死后尾七是什么意思,头三尾七是什么意思<人死后尾七是什么意思,头三尾七是什么意思/span>digm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美光在(zài)全球 DRAM (内存)市场(chǎng)份额约为 94.35%。

  A股上市公(gōng)司中,江波(bō)龙(lóng)、佰维存储(chǔ)等(děng)公司披露(lù)过美(měi)光等国际存储(chǔ)厂商为公司供应(yīng)商。

  美光在江波(bō)龙采购占(zhàn)比已经(jīng)显著下降,至(zhì)少已经不是主要大(dà)供应商。

  公告显示, 2021年美光位列江波龙第一大(dà)存储(chǔ)晶(jīng)圆供应商,采购约(yuē)31亿元,占比33.52%;2022年,江波龙第一大、第二大(dà)和第三大供应商采购(gòu)金额(é)占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经(jīng)在(zài)存储产业(yè)链上下游建立国内(nèi)外(wài)广泛合(hé)作。2022年(nián)年报显示,江波龙与三星(xīng)、美光、人死后尾七是什么意思,头三尾七是什么意思西部数据(jù)等主要存储(chǔ)晶圆原(yuán)厂签署了长(zhǎng)期合约,确保存储晶圆供应(yīng)的稳定性,巩固公司在下游(yóu)市(shì)场的供应优势,公司也与国内(nèi)国产存(cún)储(chǔ)晶圆原(yuán)厂武汉长江存储、合(hé)肥(féi)长鑫(xīn)保持(chí)良好的合作。

  有(yǒu)券商此前就分析,如(rú)果美光在中国区销售受到限(xiàn)制,或将导致下游客户转而采购国外三星、 SK海力士,国内长江存储、长鑫存储(chǔ)等竞对产(chǎn)品

  分析称(chēng),长存、长鑫(xīn)的(de)上游(yóu)设备厂或从中受益。存储器的生产已经演(yǎn)进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已(yǐ)经进入3D NAND时代,2 维到3维的结构转变使刻蚀和薄膜成(chéng)为(wèi)最关键、最(zuì)大(dà)量的加工设备。3D NAND每层均需(xū)要经过薄膜沉积工(gōng)艺(yì)步骤,同时(shí)刻蚀目前前(qián)沿要刻到 60:1的深孔,未来(lái)可能会更深(shēn)的孔或(huò)者沟槽,催生更多设备需求。据东京电子披露,薄(báo)膜沉积(jī)设备及(jí)刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开支合计(jì)为75%。自长江(jiāng)存(cún)储(chǔ)被加入美国限制名单,设备国产化进(jìn)程加速,看好拓荆科技(薄膜沉(chén)积)等(děng)相(xiāng)关公司份额提升,以及存储(chǔ)业(yè)务占(zhàn)比较高的(de)华海清(qīng)科(CMP)、盛美上海(清洗(xǐ))等(děng)收入增长。

 

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